Apple Melarang Penggunaan Bahan Beracun di iPhone

 

Jakarta - Bahaya bahan kimia yang bisa merusak syaraf hingga menyebabkan kanker menjadi isu serius di pabrik pemasok gadget Apple. Celakanya, bahan-bahan ini masih dipakai di beberapa pabrikan.

Apple, seperti dilansir Telegraph, Jumat (15/8/2014), berjanji untuk lebih tegas melarang penggunaan dua bahan kimia beracun yang membahayakan ribuan pekerja pabrik perakitan mereka di China.

Racun bernama n-hexane dan carcinogen benzene ini umumnya dipakai di pabrik besar milik perusahaan terpisah tempat produk Apple dibuat. Keduanya juga ternyata digunakan secara luas oleh manufaktur lain.

Bahan bernama n-hexane biasa dipakai membersihkan noda di layar gadget, sebelum dikemas dalam kotak. n-hexane menjadi pilihan karena lebih cepat kering dibandingkan bahan lain, sehingga membuat pekerja bekerja lebih cepat.

Namun dampak buruknya, n-hexane bisa mengakibatkan kerusakan saraf. Pada kasus yang parah, bahkan bisa mengakibatkan lumpuh pada orang yang terpapar. Bahan lainnya, carcinogen benzene yang digunakan untuk melapisi komponen elektronik tertentu juga tidak kalah berbahayanya.

Awal tahun ini, kelompok aktivis peduli lingkungan Green America memperingatkan bahaya paparan racun kimia dalam proses manufaktur gadget Apple. Laporan Green America juga mengklaim, staf pabrik umumnya tidak mendapat pengetahuan memadai soal ini.

Beberapa tahun lalu, Apple memang sempat diterpa kabar tak sedap. Proses pembuatan iPhone disebut-sebut meracuni para pekerja yang merakitnya. Surat kabar Taipei Times pada tahun 2010 memberitakan, seorang pekerja di salah satu pabrik perakitan iPhone di Taipei, Wintek, menderita sakit akibat terpapar n-hexane.

Berdasarkan pengakuan para pekerja, mereka mengalami pusing, nyeri badan, lemah dan lelah untuk bekerja dalam waktu yang sangat lama.

Dokter yang memeriksa mulanya kesulitan mendiagnosa penyakit para pekerja ini. Namun akhirnya, hasil pemeriksaan lebih lanjut menemukan bahwa penyakit tersebut disebabkan penggunaan n-hexane secara langsung.